清洗包括工业生产过程中对机械零件、电子元件、光学元件等的清洗,目的是去除微小的污垢颗粒。
超声波清洗机根据清洗方法的不同,也可分为物理清洗和化学清洗:利用力学、声学、光学、电学、热学原理,依靠外部能量的作用,如机械摩擦、超声波、负压、高压等。在罢工中。紫外线、蒸汽等去除物体表面污垢的方法称为物理清洗;根据化学反应的作用,使用化学药物或其他溶剂清除物体表面的污垢称为化学清洗。如使用各种无机或有机酸去除物体表面的锈、垢,用氧化剂去除物体表面的色斑,用杀菌剂。消毒剂杀灭微生物、去除霉菌等。物理清洗和化学清洗各有优缺点,具有很好的互补性。在实际应用过程中,通常将两者结合使用,以获得更好的清洗效果。
根据清洗介质的不同,又可分为湿法清洗和干法清洗:一般在液体介质中清洗称为湿法清洗,在气体介质中清洗称为干法清洗。传统的清洗方式大多是湿法清洗,人们更容易理解干洗是吸尘器。但近年来,干洗业发展迅速。如激光清洗。紫外线清洗、等离子清洗、干冰清洗等,在高。精细工业技术领域发展迅速。